檢索結果：共3筆資料 檢索策略： "化學工程系".dept (精準) and ckeyword.raw="半導體廢水"
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本研究以批次式反應器處理電子業含磷廢水，在不同濃度的磷酸下(1,000~20,000 mg/L)，以氯化鈣作為沉澱劑，產生高純度磷灰石(Ca5(PO4)3OH)。當鈣對磷酸的莫耳比為5:3，酸鹼值為…
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化學機械研磨是目前能夠將250奈米以下製程的8吋晶圓完全平坦化的技術。然而，此程序消耗大量的超純水，即產生大量難以處理之廢水。本研究利用PDA2000來觀察不同高分子對於膠羽在雙重混凝程序中的影響。…
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本論文利用鎂鹽與鈣鹽對半導體業含氟廢水中磷酸、銨和氟進行選擇性分離與回收。在高濃度的磷酸與氨下，以氯化鎂作為沈澱劑，磷酸與銨可以磷酸銨鎂 (MgNH4PO4.6H2O)形式去除，結果亦顯示廢水中氟和…